今天为大家带来的是完整版的线路板生产制作流程，希望能够让大家对线路板的生产有更深的了解！
开料
目的：根据工程资料MI的要求，在符合要求的大张板材上，裁切成小块生产板件．符合客户要求的小块板料．
流程：大板料→按MI要求切板→锔板→啤圆角\磨边→出板
钻孔
目的：根据工程资料，在所开符合要求尺寸的板料上，相应的位置钻出所求的孔径．
流程：叠板销钉→上板→钻孔→下板→检查\修理
沉铜
目的：沉铜是利用化学方法在绝缘孔壁上沉积上一层薄铜．
流程：粗磨→挂板→沉铜自动线→下板→浸%稀H2SO4→加厚铜
图形转移
目的：图形转移是生产菲林上的图像转移到板上
流程：（蓝油流程）：磨板→印面→烘干→印第二面→烘干→爆光→冲影→检查；（干膜流程）：麻板→压膜→静置→对位→曝光→静置→冲影→检查
图形电镀
目的：图形电镀是在线路图形裸露的铜皮上或孔壁上电镀一层达到要求厚度的铜层与要求厚度的金镍或锡层．
流程：上板→除油→水洗二次→微蚀→水洗→酸洗→镀铜→水洗→浸酸→镀锡→水洗→下板
退膜
目的：用NaOH溶液退去抗电镀覆盖膜层使非线路铜层裸露出来．
流程：水膜：插架→浸碱→冲洗→擦洗→过机；干膜：放板→过机
蚀刻
目的：蚀刻是利用化学反应法将非线路部位的铜层腐蚀去．
绿油
目的：绿油是将绿油菲林的图形转移到板上，起到保护线路和阻止焊接零件时线路上锡的作用
流程：磨板→印感光绿油→锔板→曝光→冲影；磨板→印面→烘板→印第二面→烘板
字符
目的：字符是提供的一种便于辩认的标记
流程：绿油终锔后→冷却静置→调网→印字符→后锔
镀金手指
目的：在插头手指上镀上一层要求厚度的镍\金层，使之更具有硬度的耐磨性
流程：上板→除油→水洗两次→微蚀→水洗两次→酸洗→镀铜→水洗→镀镍→水洗→镀金
镀锡板 (并列的一种工艺)
目的：喷锡是在未覆盖阻焊油的裸露铜面上喷上一层铅锡，以保护铜面不蚀氧化，以保证具有良好的焊接性能．
流程：微蚀→风干→预热→松香涂覆→焊锡涂覆→热风平整→风冷→洗涤风干
成型
目的：通过模具冲压或数控锣机锣出客户所需要的形状成型的方法有机锣，啤板，手锣，手切
说明：数据锣机板与啤板的度较高，手锣其次，手切板具只能做一些简单的外形．
测试
目的：通过电子测试，检测目视不易发现到的开路，短路等影响功能性之缺陷．
流程：上模→放板→测试→合格→FQC目检→不合格→修理→返测试→OK→REJ→报废
终检
目的：通过目检板件外观缺陷，并对轻微缺陷进行修理，避免有问题及缺陷板件流出．
具体工作流程：来料→查看资料→目检→合格→FQA抽查→合格→包装→不合格→处理→检查OK
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明，多阶HDI软硬结合板结构，它包括有软板1，软板I上依次设有覆铜芯板、多层激光增层5，覆铜芯板与软板I之间通过不流动粘结片2粘接，不流动粘结片2即为不流动半固化片，覆铜芯板包括有芯板层4和分别设置在芯板层4上下两端面的覆铜层3，不流动粘结片2在与软板开窗区对应的位置处开设有软板窗口 21，覆铜芯板上与不流动粘结片2连接的覆铜层3上开设有与软板开窗区对应的环形隔离槽31，覆铜层3上位于软板开窗区对应的位置由环形隔离槽31环绕分隔形成补铜片32，补铜片32能够阻挡激光，限定激光钻孔深度，避免激光伤及到基材。软板I上位于软板窗口 21的位置设有覆盖膜6，起到保护软板I的作用。
激光增层5由内层向外层依次包括有介质层51、铜箔层52、电镀铜层53。介质层51的厚度小于或等于0.3mm,在本实施方式中介质层51的厚度为0.05、.2mm。外层的激光增层5外表面设有阻焊油墨层7。每层激光增层5上钻有孔位54，相邻两层激光增层5的孔位54相互错开，也可以叠在一起。
软硬结合板开窗方式为先使用机械控深盲铣到一定的深度，再使用激光盲铣开窗，主要运用于两阶或以上的产品，软板I到外层总厚度大于0.25mm且制作层数在8层以上的软硬结合HDI产品适用。机械盲铣使用销钉定位，激光盲铣需要在补铜片32对应的层次设计激光标靶，使用该层的标靶作为对位依据，保证激光位置的准确性。本实用新型制作流程简单，非常适用于软硬结合板高阶HDI产品的制作设计；内层软板I和外层硬板在外层同时进行表面处理制作，外层制作流程基本与普通硬板基本一致，同时可以有效的保护覆盖膜6、软板1、金手指等在制作过程中不被药水被污染；可以使用于内槽很小且无法使用机械铣来完成的产品。
本实用新型只需要在贴进软板I的不流动粘结片2开窗，其它层无须进行开窗，待次压板后，后续流程可完全按照硬板的制作流程进行制作，无须次外层涨缩测量以及各层开窗，待外层图形完成后通过机械和激光盲铣的方式完成软硬结合板软板I区的开窗制作，同时在蚀刻过程中可以将板边的铜蚀刻掉，避免软硬结合边残铜现象，制作流程和制作周期短，软硬交接区溢胶均匀，提高外观品质和曲挠性能，制作成本低，提高产品的制作效率和制作精度；并且补铜片32可阻挡激光覆盖膜6，同时在完成开窗后也回连同废料一同脱落，简化制作流程。
当然，以上所述仅是本实用新型的较佳实施例，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。
1.多阶HDI软硬结合板结构，包括有软板（1)，软板（1)上依次设有覆铜芯板、多层激光 增层（5)，其特征在于：所述覆铜芯板与软板（1)之间通过不流动粘结片（2)粘接，覆铜芯板 包括有芯板层（4)和分别设置在芯板层（4)上下两端面的覆铜层（3)，不流动粘结片（2)在 与软板开窗区对应的位置处开设有软板窗口（21)，覆铜芯板上与不流动粘结片（2)连接的 覆铜层（3)上开设有与软板开窗区对应的环形隔离槽（31)，覆铜层（3)上位于软板开窗区 对应的位置由环形隔离槽（31)环绕分隔形成补铜片（32)。
2.根据权利要求1所述的多阶HDI软硬结合板结构，其特征在于：所述软板（1)上位于 软板窗口（21)的位置设有覆盖膜（6)。
3.根据权利要求1所述的多阶HDI软硬结合板结构，其特征在于：所述激光增层（5)由 内层向外层依次包括有介质层（51)、铜箔层（52)、电镀铜层（53)。
4.根据权利要求3所述的多阶HDI软硬结合板结构，其特征在于：所述介质层（51)的 厚度小于或等于0. 3mm。
5.根据权利要求4所述的多阶HDI软硬结合板结构，其特征在于：所述介质层（51)的 厚度为0. 05?0. 2mm。
6.根据权利要求1所述的多阶HDI软硬结合板结构，其特征在于：外层的激光增层 (5 )外表面设有阻焊油墨层（7 )。
7.根据权利要求re任意一项所述的多阶HDI软硬结合板结构，其特征在于：每层激 光增层（5)上钻有孔位（54)，相邻两层激光增层（5)的孔位（54)相互错开。